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Single Wafer Photomask Wet Cleaning EquipmentGoogle 排名第 1 名•Yahoo 排名第 3
產品類別 : 半導體科技產業 > 製程設備/附屬設備
     
 


Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment


 

 
 


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產品基本資料
 
  產品名稱 Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment
 
  產品製造所在地 最後更新日期
2006/11/20
 
  產品型號/編號 MC 225
 
  產品狀態 新品
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產品說明
 
 

1.High performance Highly efficient cleaning with hot chemicals High purity cleaning with original ";Chemical Megasonic” Improved chemical resistance by metal free structure 2.Low COO Reduced consumption of pure water and chemicals by single wafer spinning Small footprint 3.Expandability Integration of spin unit, photo cleaning unit and IPA vapor drying unit Applicable to various communications systems

 

公司名稱: 台灣芝浦先進科技股份有限公司
電  話: 886-3-5284141
傳  真: 886-3-5284140


關鍵字名稱:

Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment

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上線時間: 2008/12/2
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Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment

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製造商:台灣芝浦先進科技股份有限公司 經貿通會員
 
YEH SHENG TSUNG先生 / 高階主管(處長級以上/協理/副總等)
 
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營 運 模 式 : 貿易型
營業所在地: 信義街六八號九樓
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